국내에서 유일하게 반도체 전공정 오정렬 측정장비(Overlay System) 개발에 성공한 오로스테크놀로지가 내달 25일 코스닥에 입성한다. 회사는 15일 코스닥 상장을 위한 증권신고서를 제출했다.

이번 상장을 위해 오로스테크놀로지는 총 190만 주를 공모한다. 희망 공모가 밴드는 1만7000~2만1000원으로 이에 따른 공모예정금액은 323억~399억원이다. 공모가 산정을 위한 비교기업으로는 에이피티씨, 테스, 원익IPS, 피에스케이, 제우스가 선정됐다. 회사는 내달 8~9일 양일간 수요예측을 통해 공모가를 확정한 후, 15~16일 청약을 받는다. 주관사는 키움증권이 맡고 있다.

2009년 설립된 오로스테크놀로지는 반도체 제조 전공정 중 노광공정 장비인 반도체 웨이퍼의 MI(측정계측(Metrology), 검사계측(Inspection)) 장비 제조를 주력 사업으로 영위하는 업체다. 회사는 국내 특허 38개, 해외 특허 4개 등 핵심특허를 보유하고 있다. 앞서 기술성 평가에서 반도체 수직적층 오정렬 계측 기술에 대해 A등급을 받았고, 중소벤처기업부로부터 소부장 강소기업100개 기업 중 하나로 선정되기도 했다.

반도체 전공정은 원판형 실리콘 웨이퍼에 회로를 새기는 과정을 말한다. 확산, 노광, 식각, 증착 등 여러 공정을 반복하면서 전자회로를 구성해 나가는데, 기술이 발전하면서 메모리가 점점 고집적, 고성능화 되어가고 있다. 낸드 플래시 메모리의 경우 2013년 24단에 불과했으나, 2021년 현재 200단 이상도 가능하다는 전망이 나올 정도로 기술 발전 속도가 매우 빠르다.

메모리 생산 측면에서는 지속적으로 고속화 미세화 되어가고 있다. 이 과정에서 반도체 수율 손실이 발생하지 않으려면 전자회로 패턴이 정확하게 일치해야 하고, 이 때문에 계측 및 검사(MI) 장비의 중요도는 높아지고 있는 추세다.

오로스테크놀로지의 계측 장비는 주로 노광 공정에서 회로 패턴에 맞춰 실제로 적층이 잘됐는지 확인하고 위치오류를 보정하는 계측 장비다. 노광장비를 통해 패턴이 한 장 쌓일 때마다 오버레이 계측을 통해 나노 단위로 오차를 파악해 노광기의 위치를 보정한다.

오버레이 계측 장비 시장은 시장을 석권하고 있는 미국의 KLA를 필두로 소수의 업체들이 시장을 석권하고 있다. 오로스테크놀로지는 후발주자로 시장에 진입했으나 빠른 성장으로 고난이도 기술을 개발했다. 2011년 국내에서 최초로 300나노 1세대 장비를 출시했으며, 현재는 900나노 5세대 장비까지 와있다.

회사 관계자는 더스탁에 “차세대 모델 OL-900 나노 제품의 경우, 현재 런칭돼 있는 경쟁사 제품과 비교할때 TIS(계측기 내에서의 오차) 항목에서 67% 우위, TMU(계측기의 모든 오차) 항목에서 7% 우위의 결과를 도출했으며, MAM time(측정간 이동 후 계측시간)면에서 20% 빠른 장점을 가지고 있다”고 밝혔다.

오로스테크놀로지 이준우 대표는 “세계 시장에서 오로스테크놀로지와 경쟁할 수 있는 곳은 단 한 곳뿐”이라며 “우리 회사는 세계 유수의 반도체 생산 기업 등 하이테크 반도체에서 사물인터넷(IoT) 기기에 사용되는 8인치 웨이퍼까지 세분화된 반도체 시장에 대응해 개발부터 생산까지 가능한 역량을 갖춘 기업”이라고 설명했다.

오로스테크놀로지는 이번 코스닥 상장을 해외시장 진출을 도모하고, 자체 기술 역량 강화를 위한 글로벌 R&D 센터를 신설하는 등 기업의 내외형적 성장의 기반으로 삼을 계획이다. 현재 5% 비중을 차지하고 있는 세계시장 점유율도 2023년 15%까지 늘려갈 계획이다.